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昭和電工、上海に電子材料用高純度ガスの新工場建設

富士通は2019年7月25日、2019年度第1四半期(2019年4月〜7月)業績を発表した。LSI、電子部品で構成されるデバイスソリューション事業は、売上高が前年度同期比35.6%減の846億円、営業損益は前年度同期から84億円悪化、77億円の赤字となった。このうちLSI事業の売上高は同80.7%減の179億円となった。
半導体販売会社(富士通エレクトロニクス)、電子部品製造会社を2018年度第4四半期に連結から外すなどの事業再編を進めたことにより、大幅な売り上げ減となった。営業利益についても国内工場の再編費用増加により減益となった。
2019年度通期のデバイスソリューション事業の業績見通しは、売上高が前年度比38.4%減の3,000億円、営業利益はゼロとなっている。LSI事業については売上高400億円にまで縮小する見通しである。
昭和電工は2020年1月8日、電子材料用高純度ガス事業強化のため、

上海にある製造拠点「上海昭和電子化学材料有限公司(SSE)」の

隣接地に第二工場用地を取得、高純度N2O(亜酸化窒素)および高

純度C4F8(オクタフルオロシクロブタン)の製造設備と、高圧ガ

ス危険物倉庫を建設することを発表した。

新工場の面積は約10,000m2。生産能力は高純度N2Oが年産1,000ト

ン、高純度C4F8が年産600トン。第二工場の稼働は2021年下半期を

予定している。同社は台湾にも高純度C4F8の年産150トンの設備

の新設を計画している(2020年春稼働開始予定)。上海、台湾の

新工場建設に向けての総投資額は30億円を予定している。

高純度N2Oは主に半導体やディスプレイ製造時の酸化膜の酸素源

として、高純度C4F8は主にその酸化膜のエッチングなどに使用さ

れる特殊ガス。同社では現在、高純度N2Oは川崎事業所と韓国で、

高純度C4F8は川崎事業所と上海(SSE第一工場)で生産している

が、拡大する市場に対し安定供給などの対応力を高めるため、


“地産地消”施策をさらに進める。

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最終更新 2020年 1月 10日(金曜日) 11:54  

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