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キヤノン、ナノインプリント装置を東芝メモリ・四日市工場に納入

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●キヤノンは7月20日、ナノインプリント技術を用いた半導体製造装置「FPA-1200NZ2C」を、東芝メモリの四日市工場に納入したと発表した。
  
●同社は、ナノインプリント技術を用いた次世代半導体製造装置の研究開発を2004年より続けている。同技術は、10nmクラスの微細な回路パターン形成において、光露光装置より低コストで実現できるメリットがある。
  
  
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●キヤノン、東芝に加えて、韓SK Hynix社、大日本印刷が共同でナノインプリント技術の開発に取り組んでおり、2019年の量産化を目指している。またキヤノンは2017年2月に、ナノインプリント向け量産用マスクレプリカ製造装置を発売した。世界初となるナノインプリント技術を用いた半導体メモリの量産に向けて、今後更に開発を加速させる。
  
(画像はキヤノン プレスリリースより)
  
  
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最終更新 2017年 7月 27日(木曜日) 10:34  

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