Home SCREEN、台湾清華大学と提携へ

SCREEN、台湾・国立清華大学とのパートナーシップに合意

●東芝は12月13日、同社のメモリ事業売却に関して係争中となっていた米Western Digital社(以下WD)との和解を発表した。両社は今後、フラッシュメモリ事業に関する協業を一層強化する。
●同合意により東芝メモリとWDは、現在建設中の四日市工場第6製造棟への今後の設備投資を共同で実施すると発表した。東芝が本年10月に公表している投資が含まれる。また両社は、東芝が岩手で建設を計画する新製造棟へのWDの参画に関する最終契約についても、今後協議を進める。
●両社は、フラッシュメモリ事業に関する合弁会社の契約期間を延長する。フラッシュアライアンス社については2029年12月31日まで、フラッシュフォワード社については2027年12月31日まで契約を延長する。フラッシュパートナーズ社については、既に2029年12月31日まで契約が延長されている。
●今回の和解により、東芝メモリの売却に関して全当事者が協調することとなった。東芝は2018年3月末までの売却完了に向けて、引き続き手続きを進める。
    
 SCREENセミコンダクターソリューションズは2018年4月18日、300mmウェーハによる大規模電子ビーム直接描画(MEBDW)リソグラフィのプログラム(MEB12)の開始記念式典において、台湾の国立清華大学(NTHU)をサポートする覚書に署名した。

 NTHUは、国際的な半導体製造装置メーカーおよびソフトウエア提供会社と共に、最先端のマスクレスリソグラフィ技術を開発するための、世界初となる革新的なMEBDW半導体の産学共同体を設立する。

  MEBDWリソグラフィは「オンチップセキュリティ」を実現するもので、インターネット、人工知能、電子決済、および自動車向けのICチップにセキュリティ情報を付加。この「固有ID」を持つセキュリティーチップの開発および試作を、世界で初めて台湾で行うことを可能にする。

MEB12への参加企業には、MEBDWリソグラフィ装置を製造するオランダMapper Lithography社、設計ソフトウエアを提供する米国Synopsys社も含まれている。当社は、コータ/デベロッパ「DT-3000」および枚葉式洗浄装置「SU-3200」により、MEB12をサポートする。

 MEB12には、台湾および近隣アジア諸国の半導体IC設計・製造企業がメンバーシップとして参加しており、革新的なICチップの共同開発が可能となっている。邱教授は、「セキュリティーチップの開発に加え、マスクレスIC設計の検証プラットフォームとしても利用できる。急騰するフォトマスクの大幅なコスト削減によって、新興のIC設計会社の負担の軽減、高い解像度と柔軟な描画性能によって、ニッチな市場向けの低コストファウンドリーを救済できる」としている。
  
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最終更新 2018年 4月 23日(月曜日) 11:58  

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