Home GF、2018年中に7nm量産へ

GlobalFoundries、2018年中に7nmプロセス量産へ

●米GlobalFoundries社(以下GF)は6月13日、7nm FinFETラインを2018年上半期に立ち上げ、同年下半期に量産を開始する計画を発表した。
  
●GFの7nmプロセスは、当初従来のArF液浸露光が用いられる。「ArF液浸は8nmまで、以降はEUV」とした韓Samsung Electronics社(以下Samsung)とは戦略を異にした。しかしGFも適宜EUVに移行する予定で、2017年下半期には蘭ASML社よりEUV露光装置を2台納入する予定だという。
  
   
●GF、Samsungと並んで、台TSMC社も2018年に7nmプロセスに移行するものとみられており、2017年に量産されている10nmプロセスはわずか1年で最先端の座を譲ることとなりそうだ。微細化は困難さを極めながらも、むしろ加速してきている。
   
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最終更新 2017年 6月 19日(月曜日) 09:49